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奥比中光-UW取得处理直方图专利,提高测量精度,进行,飞行时间,环境
2024-05-06 06:24:58
奥比中光-UW取得处理直方图专利,提高测量精度,进行,飞行时间,环境

金融界(jie)2024年5月6日消息(xi),据国家知识产权局公告,奥比(bi)中光科技集团股份有限公司取得一(yi)项名为“一(yi)种处理直方图的方法、距离测量系统及(ji)距离测量设备“,授权公告号CN112731425B,申请日期为2020年11月。

专利摘要显示,本发明公开了(le)一(yi)种处理直方图的方法、距离测量系统及(ji)距离测量设备,包括(kuo)步骤:S10、对原始直方图进行合并,处理获(huo)得第(di)一(yi)飞行时间;S20、根(gen)据所(suo)述第(di)一(yi)飞行时间计算环境光子均值;S30、基于所(suo)述环境光子均值对所(suo)述原始直方图进行处理获(huo)得第(di)二(er)直方图;S40、根(gen)据所(suo)述第(di)二(er)直方图计算飞行时间。本发明通过合并时间bin进行粗寻峰,在原始直方图上计算得到每个时间bin环境光的均值光子数,对去除环境光均值后的原始直方图进行粗算和细算,以获(huo)得飞行时间,最大(da)程度地降低了(le)信(xin)号光、环境光和器件噪声的影响,提高了(le)测量精度。

来源(yuan):金融界(jie)

发布于:北京市(shi)
版权号:18172771662813
 
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